P01700 - SEMI P17 - 誘導結合プラズマ発光分光法（ICP）によるポジティブ・フォトレジスト・メタルイオンフリー（MIF）現像液における鉄，亜鉛，カルシウム，マグネシウム，銅，ホウ素，アルミニウム，クロム，マンガン，およびニッケルの測定 Revision:SEMI P17-92 (Reapproved 0299) - Inactive 本スタンダードの目的は，マイクロエレクトロニクスの清浄な環境を，分子（粒子ではない）汚染レベルに関して分類することである。この標準分類は，空気を媒体とする特定の分子汚染のグループについて，許容可能汚染レベルの一貫したコミュニケーション方法を提供する。本スタンダードに添付される関連情報1を参照のこと。

本スタンダードの目的は，マイクロエレクトロニクスの清浄な環境を，分子（粒子ではない）汚染レベルに関して分類することである。この標準分類は，空気を媒体とする特定の分子汚染のグループについて，許容可能汚染レベルの一貫したコミュニケーション方法を提供する。本スタンダードに添付される関連情報1を参照のこと。

in many cases

This Test Method covers the measurement by ellipsometry of the thickness and refractive index of an insulator grown or deposited on a silicon substrate

and mass are being investigated delaying the introduction of the technology and requiring customization of equipment and processes for each panel type

the integrity of these parts is very important for the performance of EFFU

P01700 - SEMI P17 - 誘導結合プラズマ発光分光法（ICP）によるポジティブ・フォトレジスト・メタルイオンフリー（MIF）現像液における鉄，亜鉛，カルシウム，マグネシウム，銅，ホウ素，アルミニウム，クロム，マンガン，およびニッケルの測定 Revision:SEMI P17-92 (Reapproved 0299) - Inactive 本スタンダードの目的は，マイクロエレクトロニクスの清浄な環境を，分子（粒子ではない）汚染レベルに関して分類することである。この標準分類は，空気を媒体とする特定の分子汚染のグループについて，許容可能汚染レベルの一貫したコミュニケーション方法を提供する。本スタンダードに添付される関連情報1を参照のこと。NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI SEMI Resist CommitteeNorth American Microlithography Committee199810North American Regional Standards Committee19992www. semi. org1999219921996 NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to